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等离子清洗技术

电子工业清洗是一个很广的概念，包括任何与去除污染物有关的工艺，等离子清洗器，但针对不同的对象，清洗的方法有很大的区别。目前在电子工业中已广泛应用的物理化学清洗方法，从运行方式来看，等离子，大致可分为两种:湿法清洗和干法清洗。湿法清洗已经在电子工业生产中广泛应用，清洗主要依靠物理和化学(溶剂)的作用，等离子表面清洗设备，如在化学活性剂吸附、浸透、溶解、离散作用下辅以超声波、喷淋、旋转、沸腾、蒸气、摇动等物理作用下去除污渍，这些方法清洗作用和应用范围各有不同，清洗效果也有一定差别。

等离子体所科研人员参2016年全国高电压与放电等离子体会议

　　2016年全国高电压与放电等离子体会议于11月25日-27日在北京召开，交流和分享近两年高压放电技术、脉冲功率技术、等离子体及应用领域的较’新进展，业内400余名*学者参加会议。

　　等离子体所凌必利研究员、赵鹏副研究员、程诚副研究员、沈洁副研究员等人参加了此次会议。十一室在读博士生郭起家发表了题为“感应耦合热等离子体气体组分变化对碳化硼涂层制备的影响”的口头报告，介绍了感应耦合等离子体炬制备碳化硼涂层的研究进展；六室在读博士生周秋娇发表了题为“Ar/H2感应耦合等离子体炬制备B4C涂层中的过程研究”的墙报，等离子体清洗设备，并与国内相关领域的*学者展开广泛交流和深入讨论。PST编辑部许平也参加了此次会议，向大会推介了等离子体所《PlasmaScience and Technology》（PST，《等离子体科学和技术》）期刊近年良好的发展态势。