清洗_捷纳特精密科技_电镀清洗

所述等离子体清洗设备包括多个等离子体发生筒；所述等离子体发生筒的一端为进气口，清洗，另一端为出气口，每个所述等离子体发生筒将位于其内部的气体激发为等离子体；所述多个等离子体发生筒阵列设置；且所述多个等离子体发生筒下端的开孔交错设置。上述等离子体清洗设备输入到玻璃基板表面的等离子体可以均匀地将玻璃基板覆盖，减少未被等离子体覆盖的死角，从而可以保证对玻璃基板的清洗效果。

等离子体本身是一种良导体，电镀清洗，所以能利用磁场来控制等离子体的分布和它的运动，AFC清洗，这有利于化工过程的控制。

④热等离子体提供了一个能量集中、温度很高的反应环境。温度为104～105℃的热等离子体是目前地球上温度较‘高的可用热源。它不仅可以用来大幅度地提高反应速率，射频等离子清洗，而且还可借以产生常温条件下不可能发生的化学反应。此外，热等离子体中的高温辐射能引起某些光电反应。

应用

①以热等离子体制备乙炔、硝酸、联氨和炭黑等产品。

②用热等离子技术合成高温碳化物、氮化物和硼化物，如碳化钨、氮化钛等。

③用热等离子技术制备**细粉末，如0.01～1μm的三氧化二铝、二氧化硅和氮化硅粉末。

④冷等离子体中的聚合薄膜的形成或清洗，如半导体工业中的氧化硅膜。

⑤在冷等离子体中实现材料表面改性，如离子氮化、渗碳等工艺。

⑥等离子体技术应用于油气田生产，可进行深部解堵。