捷纳特 图 |等离子清洁设备|等离子

某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入反应室被真空泵抽真空，气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。

液晶显示器生产中的清洗

在液晶清洗中的干式清洗，等离子表面处理机，使用的活化气体是氧的等离子体，等离子清洁设备，它能除去油性污垢和脏物粒子，等离子液晶，因为氧等离子体可将**物氧化，形成气体排出。它的唯‘一问题是需要在去除粒子后加入一个除静电装置清洗工艺如下:

研磨—吹气—氧等离子体—除静电通过干式洗净工艺后的电极端子与显示器，增强了偏光板粘贴的成品率，并且电极端与导电膜间的粘附性也大大改善。

等离子清洗机的产品特点：

            ● 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器，性能稳定可靠；

            ● 采用美国气体浮子流量计，等离子，流量显示准确；

            ●  *特的双路气体控制方式，气体控制更加稳定；

            ●  舱体，管路，阀体全部采用优质不锈钢材质，防腐不生锈；

            ● 手动，自动两种工作模式，可以根据用户需求任意切换；

            ● 智能程序化控制，可编程，自动完成整个实验过程；

        ● *任何耗材，使用成本低，*特殊维护，保持仪器清洁即可。